等离子清洗器

摘要 简要描述：YZD08-2C等离子清洗器广泛应用于科学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生命医学、微观流体学等领域。

摘要 等离子清洗器不仅可以清洗注塑过程中外壳留下的油污，还可以激活塑料外壳表面，增强其包装印刷、涂层等粘接的实际效果，使外壳上的涂层与基体牢固连接，涂层实际效果非常均匀，外观更美观，耐磨性大大提高，长期使用不会出现磨漆现象。

摘要 Harrick等离子体表面处理仪的应用范围：*清洗电子元件、光学器件、激光器件、镀膜基片、芯片

摘要 简要描述：等离子清洗器YZD08-5C广泛应用于科学、光电子学、电子学、材料科学、生命科学、高分子科学、生命医学、微观流体学等领域。

摘要 随着纳米科学的发展，电子探针分析变得越来越具有挑战性：电子束能量降低，反应气体使用的增加，保持高分辨率越来越依赖于保持低碳污染状态和低HC污染水平

摘要 众濒小型射频真空等离子清洗机实验室仪器，真空低温清洗，更适合易热形变类物体，双路气体接入，智能中控，操作更简单。

摘要 简要描述：等离子清洗器YZD08-2C;*个引进了美国霍尼韦尔真空压力传感器使得机器在智能控制下有了可靠的依据;采用舱体、管路、阀体全部为不锈钢材料，称之为全防腐型;该仪器实现了手动，自动两种模式任意切换的工作方式

摘要 AAC54 PLUS酸逆流清洗器，采用*技术，通过相对密闭的腔体内酸蒸汽持续快速的逆流，可以安全、高效的把样品化学分析后的各种石英玻璃、PTFE等材质的试管及附件上面的任何痕量金属污染物*清洗清除。该产品可广泛应用于实验室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。

摘要 AAC54 PLUS酸逆流清洗器，采用*技术，通过相对密闭的腔体内酸蒸汽持续快速的逆流，可以安全、高效的把样品化学分析后的各种石英玻璃、PTFE等材质的试管及附件上面的任何痕量金属污染物*清洗清除。该产品可广泛应用于实验室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 400 低成本设计提供高离子电流, 霍尔离子源 eH 400 尺寸和离子能量特别适合中小型的真空系统, 可以控制较低的离子能量, 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸: 直径= 3...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 1000 高效气体利用, 低成本设计提供高离子电流, 特别适合中型真空系统. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”放电电压 / 电流: 50-3...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 2000 特别适合大中型真空系统, 带有水冷方式, 低成本设计提供高离子电流. 通常应用于离子辅助镀膜, 预清洗和低能量离子蚀刻.尺寸: 直径= 5.7“ 高= 5.5”放电电压 / 电流: 50-...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 霍尔离子源 eH 3000 适合大型真空系统, 与友厂大功率离子源对比, eH 3000 是目前市场上高效, 提供高离子束流的离子源.尺寸: 直径= 9.7“ 高= 6“放电电压 / 电流: 50-300V / 20...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC 10, 宽束离子源,小型号的离子源, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.离子束流: 10 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 （Typ...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC 40. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.离子束流: 100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 （Typical flow）: 2-...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC 75, 紧凑栅极离子源, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.离子束流: 250 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝.加热灯丝产生电子, 增强设计输出高质量, 稳定的电子流....

摘要上海伯东代理美国 KRI 考夫曼离子源 KDC 100, 属于中型规格栅极离子源. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.离子束流: 400 mA; 离子动能: 100-1200 V; 流量: 2-20 sccm; 中和器: 灯丝.采用双阴极灯丝和自对准栅极.加热灯丝产生电...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 考夫曼离子源 KDC 160. 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射. 适用于已知的所有离子源应用.离子束流: 650 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: 灯丝, 流量 （Typical flow）: 2...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 40, 离子束可选聚焦/ 平行/ 散射.KRI 射频离子源 RFICP 40 属于大面积射频离子源, 离子束流: 100 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 100, 离子束可聚焦, 平行, 散射.KRI 射频离子源属于大面积射频离子源, 离子束流: 350 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 流量（Typic...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 140 是一款紧凑的有栅极离子源, 离子束可聚焦, 平行, 散射.离子束流: 600 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000. 采用射频技术产生离子, 无需电离...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 射频离子源 RFICP 220, 大面积高能量栅极离子源.离子束流: 800 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000; 流量（Typical flow）: 10-40 sccm; 压力...

摘要上海伯东代理美国考夫曼博士设立的考夫曼公司 KRI 离子源, 原厂*.KRI 射频离子源 RFICP 380 属于大面积射频离子源, 离子束流: 1500 mA; 离子动能: 100-1200 V; 中和器: LFN 2000.离子束可聚焦, 平行, 散射.采用射频技...

摘要 SQ型酸逆流器皿清洗装置清洗PFA溶样罐1）腔体为高纯所有与器皿接触的部分均为高纯实验级PTFE材质。 （2）加热系统可按照客户要求做成节能环保型的硅胶加热片，功率为350W；或者是我公司的特氟龙加热电热板,功率为2000W

摘要 善准科技等离子清洗机VP-R手动版腔体温度小于32摄氏度，频率13.56MHz物理与化学作用俱佳，适用于PDMS键合、石墨烯粉末清洗、硅材料亲水性处理和高分子材料处理。

摘要 PLUTO-T具有性能稳定、性价比高、操作简便、使用成本极低、易于维护的特点。 对各种几何形状、表面粗糙程度各异的金属、陶瓷、玻璃、硅片、塑料等物件表面进行超清洗和改性。 **地清除样品表面的有机污染物。

摘要 真空等离子清洗机 活性增强实验室设备工业，为真空等离子清洗机。jun工级腔体，真空清洗，进口品质，国产价格，高性价比。

摘要 大气低温等离子清洗机 表面增强实验室工业，为等离子清洗机。德国电路技术，低温清洗，进口品质，国产价格，高性价比。

摘要真空等离子清洗机产品简述1、等离子清洗机的结构主要分为三个大的部分组成，分别是控制单元、真空腔体以及真空泵。（A）控制单元 控制单元液晶触摸屏控制方式。 而控制单元又分为两个大的部分：1）电源部分：主要电源频率是13.56MHz、13.56MHz 是需要电源匹配器的2...

摘要等离子清洗机的气体调压与使用气体压力控制是保证等离子清洗机正常运行的重要参数之一，常见的气体减压有：气瓶减压器、气动调压阀及管道节流阀。气瓶减压器是将气瓶内的高压气体减压为低压气体的装置。等离子清洗机所使用的工艺气体大多为瓶装高压气体，为保证工艺稳定性及各气路元件的工...

摘要等离子清洗机介质阻挡放电的研究历史1 利用介质阻挡（DBD）放电产生臭氧和氮氧化物1857年，Siemens等离子利用同轴的圆筒电极结构的DBD放电产生臭氧；1860年，Andrews将此放电命名为无声放电（silent discharge）。从1860年到1900年...

摘要等离子清洗与传统湿法清洗相比有什么优势等离子清洗机已应用于各种电子元件的制造，可以确信，没有等离子清洗机及其清洗技术，就没有今日这么发达的电子、资讯和通讯产业。此外，等离子清洗机及其清洗技术也应用在光学工业、机械与航天工业、高分子工业、污染防治工业和量测工业上，而且是...

摘要 等离子设备改善PCB制程中外层线路导致短路造成PCB制程中外层线路导致短路可能的原因：1.乾膜的附著力不佳，造成线间也镀上铜锡2.乾膜受到刮撞伤造成线路间距镀上铜锡3.线路电镀过高产生草菇头（Mushroom） 现象， 线路无法蚀出。

摘要等离子设备改善PCB板印刷不清问题印制电路板，又称印刷电路板、印刷线路板，简称印制板，英文简称PCB（printed circuit board ）或PWB（printed wiring board），以绝缘板为基材，切成一定尺寸，其上至少附有一个导电图形，并布有孔（...

摘要 等离子设备改善PCB板锡面粗糙可能造成锡面粗糙的原因有：锡面粗糙一般所指的是喷锡板的上锡区产生颗粒状的外观，这样的外观主要来自于以下原因：1.上锡区表面不洁2.助焊剂不足3.锡槽不纯度过高

摘要等离子清洗机可以改变氮化硅层的形貌等离子清洗机可以实现表面清洗、表面活化、表面刻蚀以及表面涂镀的功能，根据所需处理的材料与目的不同，等离子清洗机可以实现不同的处理效果。等离子清洗机在半导体行业中的应用有等离子刻蚀、显影、去胶、封装等。真空等离子清洗机的刻蚀工艺在半导体...

摘要 低温等离子设备的应用范围低温等离子放电过程中虽然电子温度很高，但重粒子温度很低，整个体系呈现低温状态，所以称为低温等离子体，也叫非平衡态等离子体。

摘要 作为在实验室中使用的等离子体研发平台，我们努力尝试为客户解决一切可能在实验活动中遇到的需求。“因为是自己研发的，所以我们知道怎么改！”我们的总工这样评价我们的研发能力。我们非常乐意倾听用户需求，与用户一起合作，制造出能够帮助客户解决问题的设备。

摘要 AAC54酸逆流清洗器采用*技术，通过相对密闭的腔体内酸蒸汽持续快速的逆流，可以安全、高效的把样品化学分析后的各种石英玻璃、PTFE等材质的试管及附件上面的任何痕量金属污染物*清洗清除。该产品可广泛应用于实验室痕量分析所使用到的微波消解罐、玻璃器皿等附件。

摘要 经过多年技术创新和积累，PLUTO-M创新性将真空式等离子体技术应用于各种不同领域的研究型操作平台，除了实现常规清洁样品和表面改性的功能外，通过添加不同的功能模块，可以实现等离子体镀膜，等离子体合成反应，等离子体纯化等功能，*的拓展该设备的应用领域。

摘要Pluto30是专为研发而设计的全功能等离子体系统，13.56MHz射频发生器和自动匹配网络电源在整个过程区域产生均匀的等离子体。Pluto 30的真空腔可支持多达7个可调节样品架，以容纳各种形状尺寸的样品。Pluto30具有多种电极设置，可配置成RIE和PECVD模...

摘要 PLUTO-MH型等离子体表面处理系统是针对于高校，科学研究所和企业实验室，或者小批量生产的创新性企业而研发的创新型实验平台。针对用户不同的需求，我们提供不同功能附件，在获得常规性能的同时，拥有表面镀膜（涂层），刻蚀，等离子化学反应，粉体等离子体处理等多种能力。

摘要等离子技术可以改善PCB板绿漆缺点问题使用等离子技术是不是可以改善PCB板绿漆缺点问题?那么首先需要知道这些都是什么样的问题。答案是：PCB板线路漏铜、PCB板线路沾金、PCB板印字不清、PCB板印字偏移、PCB板S/M渗入孔内、PCB板PAD沾S/M、PCB板绿漆不...

摘要教您进入等离子体刻蚀，读懂新科技新时代通过其等离子表面处理，能够改善材料表面的润湿能力，使多种材料能够进行涂覆、涂镀等操作，增强粘合力、键合力，同时去除有机污染物、油污或油脂。等离子刻蚀，是王法刻蚀中较常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生...

摘要用于PCB线路板等离子表面处理,*提升等离子清洗机使用真空腔体，在PCB线路板区域中的上电极和下电极之间存在自由传导路径，但在胶带和PCB线路板框架区域中没有传导路径。该环由绝缘的非导电材料制成，而铝到铝等离子体传导路径被限制在PCB线路板区域。环与胶带和晶片框之间有...