典型应用
污染物清洗
清洗玻璃、金属、陶瓷、塑料等材料表面的有机物及其他污染物
表面活化
利用等离子体轰击样品表面，改变样品表面张力和活性
镀膜
采用等离子断键功能的装置，将镀膜材料以纳米级厚度均匀覆盖样品表面
等离子体刻蚀
对半导体材料、集成电路板、 PCB 板、塑料制品等材料进行刻蚀
等离子体反应
特别的工艺手段和装置，可以实现等离子体与样品的化学反应，并得到相应物质
粉体处理
粉体装置，可实现纳米级颗粒的等离子体均匀处理，实现各项性能
控制等离子浓度和方向
通过转换电极正负极和电极之间距，可控制等离子体浓度和反应方向
加热电极模块
温度可控，可以加速等离子体处理速度和*提高样品处理的均匀性
沉积镀膜模块，改变表面特性
沉积 CF 材料，样品表面可以具有憎水的特性
沉积含苯材料，样品表面起到绝缘防水的特性
沉积含有羟基的材料，提高样品表面和其他材料的结合效果
化学反应
气体纯化和使用等离子体与相关材料进行化学反应
粉体处理装置
用于处理微纳米级别颗粒
感应耦合模块
感应耦合等离子体装置
气体混合装置
可以根据可以要求进行混气设计
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PLUTO-M 参数 ( 标准配置 ) |
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真空腔尺寸 |
不锈钢腔体， φ210mm*230mm |
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电极尺寸 |
多控自适应平板电极 ， 125*125mm |
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等离子体发生器 |
RF 射频发生器，频率： 13.56MHz ；自适应阻抗匹配电源 |
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功率 |
0-200W 连续可调，精度 1W |
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真空计 |
热电偶真空计 0-1000mT |
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供气 |
1 路气体， 6mm 国标连接件（软管） |
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控制方式 |
4.3 寸触摸屏，多级应用菜单，操控简易快捷 |
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抽气装置 |
飞跃 VRD-8 ，二级油泵 8m 3 /h |
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外部尺寸 |
404*640*615mm |
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可 选 配 置 |
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纯铝腔体 |
间距可调电极 |
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等离子体发生器 |
RF 13.56MHz 300W/500W, 自动阻抗匹配电源 |
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气体收集装置 |
用于收集等离子体化学反应后的气体 |
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小型氧气发生器 |
用于制备氧气，可取代氧气罐 |
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气体混合装置 |
可根据客户要求进行混气设计 |
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加热电极模块 |
电极可以加热，室温 -200 ℃可调 |
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光谱仪模块 |
可增加光谱仪的接口，检测等离子体光谱变化 |
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电极转换模块 |
可自由变换电极设计，样品可放在射频电极上，也可以放在地电极上，从而实现不同的处理效果 |
