极品白丝嫩模被大哥操 电子束刻蚀系统

摘要 二手刻蚀机现货供应PSKEVOLITE2，2011年设备，可对12英寸晶圆进行蚀刻工艺加工

摘要 二手刻蚀机现货供应PSKSUPRAIII，2013年设备，可对12英寸的晶圆进行刻蚀工艺处理

摘要 二手刻蚀机现货供应PSKSUPRAVM，2013年设备，可对12英寸晶圆进行加工处理

摘要 二手PSK刻蚀机TERA21现货供应，2004年设备，能对12英寸晶圆进行加工，打包封装完成随时可以发货

摘要 二手刻蚀机现货供应SAMCOICP-RIE-212IP，ICP刻蚀系统，2007年设备，封装完成，随时发货

摘要 二手刻蚀机现货供应SAMCOPD-160IP，2001年设备，高密度等离子气相化学沉积系统

摘要 SAMCO二手刻蚀机PD-200D现货供应，1996年设备，可对8英寸晶圆进行刻蚀处理，便宜处理，随时发货

摘要 SAMCO二手刻蚀机RIE-10N现货供应，1996年设备，可对8英寸大小的晶圆进行蚀刻处理

摘要 SAMCO二手刻蚀机现货供应RIE-200IP，2007年设备，IC等离子刻蚀

摘要 二手刻蚀机现货供应SAMCORIE-200IPC，2006年设备，已打包封装完成，随时发货

摘要 二手翻新现货SAMCO刻蚀机RIE-200L，2004年设备，现货，可随时发货

摘要 SAMCO刻蚀机RIE-200NL现货供应，2007年设备，RIE反应离子刻蚀机

摘要 SAMCO刻蚀机RIE-212IPC二手现货供应，2009年设备，针对8英寸晶圆的ICP刻蚀系统

摘要 SAMCO刻蚀机RIE-331IPC，2012年设备，干法刻蚀系统

摘要 SAMCO刻蚀机UV-2二手现货供应,2018年新设备，可对6-8英寸的晶圆进行处理

摘要 SAMCO刻蚀机UV-300H二手现货供应，2007年设备，可随时发货

摘要 ULVACCE-300I二手刻蚀机现货供应，2007年设备，处理3英寸晶圆，刻蚀材料：Mo,TiN,NbN,Si

摘要 ULVAC刻蚀机ENVIROII现货供应，2009年设备，可加工8英寸晶圆

摘要 ULVAC刻蚀机FRE-200E二手现货，2012年设备，打包完成，随时发货

摘要 ULVAC刻蚀机NA1000二手现货供应，2006年Plasmaasher设备

摘要 ULVACNE550二手刻蚀机，2005年设备，打包完成，现货供应，随时发货

摘要 二手刻蚀机ULVACNE-730，2002年设备，ICP干法刻蚀系统

摘要 ULVACNE-5700二手刻蚀机，2007年设备，可对6英寸晶圆进行干法蚀刻工艺处理

摘要 ULVACNE-7000二手刻蚀机现货，1996年设备，加工4英寸晶圆，金属刻蚀机

摘要 ULVAC二手刻蚀机NE-950EX现货供应，2011年设备，干法刻蚀机

摘要 ULVACPHOENIX爱发科二手刻蚀机现货，1998年设备，可对6-8英寸的晶圆进行蚀刻处理

摘要 ULVAC二手现货刻蚀机RMD-200M，2000年设备，多腔室，可对12英寸晶圆进行加工

摘要 CANON/ANELVA刻蚀机I-1060SVIIPLUS-1，2003年设备，可针对8英寸晶圆进行刻蚀工艺处理

摘要 CANON/ANELVA刻蚀机ILD4100，2005年设备，打包封装完成，随时可以发货

摘要 SEZ/LAMRESEARCH刻蚀机203二手现货供应，旋转刻蚀机，可对4-8英寸的晶圆进行蚀刻加工处理

摘要 SEZ/LAMRESEARCH304刻蚀机二手现货供应，2004年设备，旋转刻蚀机

摘要 SEZ/LAMRESEARCH刻蚀机323现货供应，2012年设备，可加工8~12英寸晶圆

摘要 SEZ / LAM RESEARCH 刻蚀机4300二手现货供应

摘要 GASONICS/NOVELLUSPEPIRIDIADL二手刻蚀机现货制造商：GASONICS/NOVELLUS模型：PEPIRIDIADL类别：ETCHERS/ASHERS年份：2006年晶圆尺寸：8"设备详情：Stripper/Asher

摘要 GASONICS/NOVELLUSSIERRA刻蚀机二手现货供应，已打包封装完成，下单即可发货

摘要 二手刻蚀机OXFORDPLASMALAB100现货供应，2000年设备，可多3~8英寸的晶圆进行加工处理

摘要 离子束刻蚀IBE

摘要 CIONE系列Mini 等离子反应离子刻蚀机

摘要用于沉积纳米级薄膜、纳米粉末包覆、长深孔样品镀膜;具有Thermal-ALD、PEALD、Particle-ALD和生产型ALD;具备近100种膜层工艺。应用领域：芯片封装、半导体High-k介电层、纳米涂层、3D涂层、锂电池、催化剂、太阳能电池、5G通讯（SAW器件...

摘要Laser MBELaser MBE特点模块化概念，Laser MBE可以轻松升级到传输模块或其他模块UHV PLD主腔室、利用Load-lock实现衬底和靶材的UHV传输*的工艺自动化功能，可实现超晶格生长温度测量准确的耐氧衬底加热器，1000 ℃，也可以选配激光加...

摘要 这款蚀刻和清洁系统专为满足当今晶圆、光掩模和基板的前沿应用的特殊工艺需求而设计。

摘要RIE反应离子刻蚀机NRE-3500（A）全自动RIE反应离子刻蚀机概述：独立式RIE反应离子刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持到...

摘要 专业的沉积设备制造商，为各个领域的客户提供完善的薄膜沉积解决方案：电子束蒸发系统、热蒸发系统、超高真空蒸发系统、分子束外延MBE、有机分子束沉积OMBD、等离子增强化学气相淀积系统PECVD/ICP Etcher、电子回旋共振等离子体增强化学气相沉积、离子泵等。

摘要NRE-4000型RIE-PE刻蚀机：提供PC控制的PE刻蚀RIE刻蚀一体机，配套有淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品.具有不锈钢柜子以及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12“的晶圆...

摘要NRE-3000型RIE-PE刻蚀机：PC控制的RIE刻蚀PE刻蚀系统，淋浴头气体分布装置以及水冷RF样品，不锈钢柜子及13“的上盖式圆柱形铝腔,便于晶圆片装载.腔体有两个端口:一个带有2“的视窗,另一个空置用于诊断.该系统可以支持Z大到12“的晶圆片。腔体为超净设计...