什么是紫外臭氧清洗 ?
紫外臭氧清洗是一种光敏氧化处理过程。在处理过程中，有机分子在吸收短波长紫外辐射后，与臭氧分子发生化学反应，使有机分子从样品表面分离下来。紫外臭氧清洗是一种的清洁技术，可清洁光敏表面、树脂表面，以及洗涤溶剂、助焊剂、油类中的残留物，可以对你的样品进行表面杀菌处理而不影响表面属性。紫外臭氧清洗与其它清洗技术 (如氧等离子清洗)不同，不会导致样品表面损伤。
紫外臭氧清洗机利用高强度紫外光源，在 185nm和 254nm两个波长照射目标表面进行处理。样品仓内的分子氧(O2)在200nm以下波长的紫外线照射下进行分解，产生两个氧自由基(O•)。每个氧自由基随后与更多的氧分子发生反应，生成臭氧(O3)分子(图1)。没有被残余氧吸收的大于200nm波长的紫外线被基片表面上的有机化学键大量吸收，导致激发状态或有机自由基的产生。这些活性有机物种与不稳定的臭氧分子接触时会产生易挥发性物种，如CO2，H2O，N2及短链有机化合物。这种挥发性物质极易从样品表面挥发释放，达到表面清洁的效果。
英国 Ossila紫外臭氧清洗机可以去除样品表面污染，数分钟内产生超净表面。它利用高能紫外光源产生臭氧，臭氧将样品表面的污染物分解为挥发性化合物。挥发性化合物从样品表面蒸发，迹。这种清洁方法可以产生接近原子级的清洁表面，而不会对样品表面产生损坏。
英国 Ossila紫外臭氧清洗机的托盘尺寸为100mmx100mm，可将样品定位于紫外光源下。您只需将样品放到托盘上，关上仓门，设置好时间，按开始键即可。
英国 Ossila紫外臭氧清洗机性价比高， 厂家提供 2年免费质保 。
目前紫外臭氧清洗机的主要应用表面UV光清洗和表面UV光改质。
u 表面UV光清洗： 利用紫外光以及由其产生的臭氧OZONE，对有机物质所起的光敏氧化分解作用，以达到去除粘附在物体表面上的有机化合物（碳氢化合物），获得超洁净的表面。
u 表面UV光改质： 利用紫外光照射有机表面，在将有机物分解的同时，254nm波长的紫外光被物体表面吸收后，将表层的化学结构切断，光子作用产生原子氧会与被切断的表层分子结合，并将之变换成具有高度亲水性的官能基（如-OH，-CHO，-COOH），从而提高表面的浸润性。
主要应用
u 石英/玻璃制品的表面清洗： 液晶面板 , 等离子电视屏幕 , 彩色过滤片 , 光罩 , 棱镜 , 透镜 , 反射镜 , 平板电视等。
u 微电子产品的表面清洗： 微型马达轴 , 磁头驱动架 , 光盘 , 光电器件 , 手机摄像头 , 微型喇叭/受话器震膜 , 半导体硅片 , 掩膜版。
u 精密集成电路的表面清洗： 液晶显示器ITO , 精密电路板 , 软性电路板接头 , BGA基板的清洗 , COG的清洗 , COF(ILB)接合面的清洗 , 薄膜基板的清洗 , 金属基板的清洗 , BGA基板与粘结垫的清洗。
u 在胶粘接或是印刷之前，对高分子聚合制品的表面改性： 橡胶粘接，塑料汽车部件，透镜保护膜 , 塑料薄膜 , 树脂成型空气袋 , IC包装 , 注射針接合部份的表面性 , 介入导管的表面改型等。
u
科研过程的表面清洗及处理：
半导体，生物芯片，纳米材料，聚合物，光化学等
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紫外臭氧清洗机适用的样品类型包括 :
· 石英
· 硅
· 二氧化硅
· 氮化硅
· 金
· 镍
· 铝
· 砷化镓
· 氧化铝
· 玻璃
· 不锈钢
产品 特点
u 成本低。
u 120x120mm样品台。
u 大处理样品高14mm。
u 抽屉式样品台，简单方便。
u 样品台自动安全开关 ,打开UV自动关闭，防止对人身伤害。
UVO显示器
u LCD屏显示“已用时间”和“剩余时间”。
u 60分钟定时器。
u 高强度UV灯源。
u
可控温的样品台。
u 样品清洗无需溶剂。
u 超净表面。
UVO样品托盘
二、 技术参数
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UV灯类型 |
人造石英紫外格栅灯 |
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UV灯主要波长 |
185 nm 和 254 nm |
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UV灯规格 |
100 mm x 100 mm |
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UV灯电流 |
30 mA (恒定) |
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254 nm 输出强度 |
100厘米距离的光强度为20 µW/cm2 |
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UV 灯使用寿命 |
T80 (2000小时); 8-10年标准日常使用时间 |
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电源 |
电源220-240 VAC 保险丝：1A |
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选配的AC/AC 变压器 |
110 V / 230V |
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运行时间 |
59 分钟59秒 |
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安全特征 |
安全互锁装置, 高温报警, 热熔断路 |
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托盘尺寸 |
100 mm x 100 mm |
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样品尺寸 |
100 mm x 100 mm |
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外形尺寸 |
宽 204 mm 高 227 mm 长 300 mm |
